ASML:没有EUV 中共芯片技术落后10到15年
The Epoch Times
荷兰光刻机制造商阿斯麦(ASML Holding NV)的首席执行官克里斯托夫‧富凯(Christophe Fouquet)再次表示,因美国禁止对华出口极紫光刻机(EUV),导致中共芯片技术落后西方。
不久前,富凯接受荷兰《商务日报》(NRC Handelsblad)专访时表示,因为中国公司无法获得尖端EUV光刻工具,中共芯片制造技术仍落后英特尔、台积电和三星等行业巨头10到15年。众所周知,即使拥有一流DUV工具,中芯国际等芯片制造商也无法以经济高效方式与台积电的工艺技术相媲美。
“通过禁止出口EUV,中国(中共芯片技术)将落后西方10到15年。”富凯说,“这确实有影响。”
这不是富凯首次谈到中共芯片技术落后西方的议题。今年10月22日,富凯在伦敦彭博科技峰会上接受采访时表示,预计美国将施加更大压力,进一步限制向共产中国销售半导体技术;且在目前制裁力度下,中共芯片技术落后10多年。
ASML是美中芯片大战的焦点。光刻技术是芯片制造商的核心所在,而ASML是目前全球唯一一家生产极紫外(EUV)设备的生产商。EUV光刻机是生产全球最先进芯片所需的设备,这些光刻机生产的高端芯片被用于从电动车到军事装备等各种用途。美国政府一直在联合日本、荷兰等盟友,努力确保这些机器不会落到中共手里。
ASML从未将EUV工具运往中国。因为1996年,美国曾牵头数十个西方国家签署了对华禁运高精尖技术的《瓦森纳协议》,荷兰也是签署国之一。
《瓦森纳协议》虽然允许成员国在自愿的基础上对各自的技术出口实施控制,但实际上成员国在重要的技术出口决策上受到美国的影响。EUV光刻机的元器件基本都来自《瓦森纳协议》的缔约国境内,美国可以从任意一个环节插手来阻止交易完成,中共要想绕过所有缔约国进口EUV光刻机困难重重。
虽然中共无法获得EUV光刻机,但ASML可以对华出口DUV光刻工具,例如Twinscan NXT:2000i。
Tom’s硬件指南网站报导,包括华为在内的中共支持的企业,也一直企图建立自己的光刻芯片制造工具和生态系统,但这个过程最多需要10到15年。作为参考,ASML及其合作伙伴从基础工作到完成商用机器以建立EUV生态系统,大概花了20多年的时间。然而,当中国半导体行业开发出低数值孔径EUV工具时,西方芯片行业将拥有高数值孔径EUV光刻甚至超数值孔径EUV设备。