荷兰扩大ASML光刻机对华出口管制

荷兰政府周五（9月6日）公布新的出口管制规则，将扩大对ASML（阿斯麦）芯片生产设备的出口管制。

周五发布的新规适用于ASML较旧型号深紫外侵润式光刻系统（deep ultraviolet immersion lithography systems）的对华出口，并将于9月7日生效。

与其它国家一样，荷兰认为这种限制是一项关键的国家安全要求。

“我做出这一决定是出于安全考量。”荷兰外贸与发展大臣莱奈特‧克莱沃（Reinette Klever）在一份声明中说，“我们看到，技术进步导致与这种特定制造设备出口相关的安全风险增加，特别是在当前的地缘政治背景下。”

ASML在周五发布的一份声明中表示，政府的最新措施标志着一种“技术性变化”，预计不会对ASML在2024年或更长远的财务前景产生任何影响。

ASML主要生产两种类型的芯片制造工具，即极紫外（EUV）光刻机和深紫外（DUV）光刻机。

EUV被台积电等芯片制造商用来生产高端芯片。DUV光刻机则用于生产其它类型的半导体，如存储芯片，这些芯片被广泛应用于笔记本电脑和手机等产品中。

在美国的压力下，荷兰政府一直不允许ASML向中国客户交付其最好的EUV光刻机，同时在2023年9月开始要求NXT:2000系列和更先进的DUV工具获得出口许可。

2023年10月，美国单方面开始限制ASML的1970i和1980i DUV侵润式光刻系统的出口，因为这些工具中含有一些美国部件。近年来，美国加大对华芯片出口管制，以防止中共获得先进芯片，从而加强中共的军事力量。