晶片大战：日本荷兰限制对华晶片技术出口，光刻机巨头进一步面临两难

荷商光刻机巨头艾斯摩尔（ASML）可能进一步停止向中国出售更多型号的光刻机，预计造成中国制造晶片的脚步减速。

农历春节期间，美国在半导体晶片（芯片）领域对中国发起的限制进一步升级。

根据彭博社报道，美国、日本及荷兰三国高层1月27日在华盛顿就半导体议题达成协议，日本和荷兰将施行美国政府要求并已启动的部分对华出口半导体设备的管制。

知情人士告诉美媒，谈判就限制向中国出口先进的极紫外光刻机等产品达成协议。

其中最引人瞩目的是，荷兰光刻机巨头艾斯摩尔（ASML，又称阿斯麦）可能已经同意不会向中国出售制造成熟制程晶片的光刻机DUV，预计造成中国自主制造晶片的脚步减速。这也表示将扩大目前已经禁止运往中国的芯片制造设备的范围和类别，从高阶晶片设备扩大到成熟制程的中低阶晶片设备。有分析说，此举会深深打击到中国中芯国际及华虹半导体等半导体公司。

作为制造半导体晶片的关键设备，光刻机一般分为三种，即最早的UV（紫外线光刻机），和后来的DUV（深紫外线光刻机）以及EUV（极紫外线光刻机），其中EUV用于7奈米及以下先进晶片制造工艺。

台北智库台湾经济研究院研究员刘佩真告诉BBC中文,　美国与荷兰的协议落实对于中国半导体业的发展无疑是一大重挫。“毕竟先前EUV机的限制已影响到先进制程的发展，DUV设备的禁止将再限制中国成熟制程的产出。”

她说，台湾则可望受益于中国成熟制程扩产的进程受到阻碍，加上国际客户对于中国产出的不确定性，因而可望有转单的效应。预计在此波去库存化后可看到较为显著的转单红利。

不过　刘佩真也强调，日本与荷兰半导体设备商原先出货给中国的比重并不小，以ASML来说，中国为其第3大客户，因此美国该如何弥补这些厂商因出口禁令导致的损失，将是此协议能否落实及持久的重点。

艾斯摩尔则提告给中国媒体财新网一份声明中称，与美国协议正式生效前，仍需细化具体内容并付诸立法，需一定时间。该公司称禁令不限于先进制程的光刻系统。

彭博社资料说明，若停止向中国销售光刻机，ASML 的销售额可能会减少 5-10%，美商应用材料公司则有25-30% 的销售额来自中国客户。

荷兰日本入团

此次协议震撼半导体界，原因首先是美国布阵拉拢国际盟友，遏止中国半导体的具体对象已从晶片（譬如施压台湾台积电禁售高阶晶片给中国）延申到生产晶片的设备。

目前全球半导体设备供应商，业务规模最大的前6家分别为美商应材（Applied Materials）、荷兰ASML（艾司摩尔）、日商东京威力科创 (TEL)、美商柯林研发(Lam Research)、美商科磊(KLA)及日商尼康（Nikon）。

2020年，在特朗普政府施压下，上述厂商开始禁售7奈米以下的先进制程设备EUV刻光机到中国。

台湾半导体评论员许美华分析，2022年10月7日，美国进一步通过晶片法案，扩大禁令，14奈米以下的DUV刻光机都不能销售到中国，此禁令对美国本土设备厂商立刻生效，剩下荷兰艾司摩尔、日商东京威力科创 (TEL)、Nikon。美国因而开始软硬皆施以贸易谈判与日荷两国协商。